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Kioxia宣布北上市工厂新闪存制造大楼竣工

2024-08-02 作者:interfax

新行政大楼将于11月投入使用

东京--(美国商业资讯)--内存解决方案领域的全球领导者Kioxia Corporation今天宣布,其行业领先的北上市工厂2号晶圆厂(K2)的大楼施工已于7月完成。K2是日本岩手县北上市工厂的第二处闪存制造设施。随着需求的复苏,公司将逐步开展资本投资,同时密切关注闪存市场趋势。Kioxia计划于2025日历年的秋季启动K2的运营。

本新闻稿包含多媒体。此处查看新闻稿全文: https://www.businesswire.com/news/home/20240731345227/zh-CN/

此外,一些行政和工程部门将从2024年11月开始迁入毗邻K2的新行政大楼,以监督K2的运营。

根据2024年2月批准的计划,K2的部分投资将由日本政府补贴。

Kioxia以“提升世界的‘记忆’”为使命,致力于抓住闪存市场的机遇,满足对AI应用和数据中心日益增长的需求。Kioxia将继续积极实施相关举措,增强其闪存研发能力,并实施符合市场趋势的敏捷资本投资。

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关于Kioxia

Kioxia是全球存储器解决方案领域的领军企业,致力于闪存和固态硬盘(SSD)的开发、生产和销售。其前身是Toshiba Memory,于2017年4月从Toshiba Corporation(1987年发明了NAND闪存)剥离出来。Kioxia致力于凭借存储器技术促进世界发展,该公司提供各种产品、服务和系统,为客户提供多样化选择,并基于存储器技术创造价值,推动社会的发展。Kioxia创新的3D闪存技术BiCS FLASH™正在塑造存储技术在高密度应用领域(包括高级智能手机、PC、SSD、汽车和数据中心)的未来。

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